1.Description
O polimento eletroquímico é um processo que remove protrusões microscópicas da superfície metálica por dissolução eletroquímica, resultando em uma superfície lisa e uniforme. Nos campos aeroespaciais e médicos, os componentes requerem qualidade superficial extremamente alta, resistência à corrosão e biocompatibilidade, tornando o polimento eletroquímico um dos processos essenciais. As fontes tradicionais de alimentação de CC enfrentam problemas como baixa eficiência e baixa uniformidade no polimento eletroquímico, enquanto o comutador de alta frequência e as fontes de alimentação DC e as fontes de alimentação de pulso aumentam significativamente o nível do processo de polimento eletroquímico.
2.Princípios de trabalho de comutador de alta frequência e fontes de alimentação de pulso
2.1 Supplência de alimentação CC de alta frequência Uma fonte de alimentação CC de alta frequência converte a frequência do utilitário CA em AC de alta frequência e, em seguida, retifica e o filtra para fornecer energia CC estável. A frequência operacional normalmente varia de dezenas de Kilohertz a várias centenas de quilohertz, com os seguintes recursos:
Alta eficiência: a eficiência da conversão pode exceder 90%, resultando em baixo consumo de energia.
Alta precisão: corrente de saída estável e tensão com flutuações inferiores a ± 1%.
Resposta rápida: resposta dinâmica rápida, adequada para requisitos complexos de processo.
2.2 Fonte de alimentação de pulso Uma fonte de alimentação de pulso é baseada na tecnologia da fonte de alimentação de alta frequência e produz correntes de pulso periódicas por meio de um circuito de controle. Os recursos incluem:
Forma de onda de pulso ajustável: suporta ondas quadradas e DC.
Alta flexibilidade: a frequência de pulso, o ciclo de trabalho e a amplitude podem ser ajustados independentemente.
Efeito aprimorado de polimento: a natureza intermitente das correntes de pulso reduz a polarização eletrolítica e melhora a uniformidade do polimento.
3.Características de fontes de alimentação de polimento eletroquímico para campos aeroespaciais e médicos
As fontes de alimentação usadas no polimento eletroquímico para aplicações aeroespaciais e médicas devem atender aos altos padrões de qualidade, segurança e confiabilidade do produto. Portanto, eles precisam ter as seguintes características:
3.1 Controle de alta precisão
● Estabilidade de corrente e tensão: o polimento eletroquímico para componentes aeroespacial e médico requer qualidade superficial extremamente alta, portanto a fonte de alimentação deve fornecer corrente e tensão altamente estáveis, com flutuações geralmente controladas em ± 1%.
● Parâmetros ajustáveis: a fonte de alimentação deve suportar ajustes precisos para a densidade de corrente, tensão e tempo de polimento para atender às necessidades de diferentes materiais e processos.
● Modo de tensão de corrente constante/constante: suporta modos de corrente constante (CC) e tensão constante (CV) para acomodar diferentes estágios do processo de polimento.
3.2 Alta confiabilidade
● Vida longa de serviço: o ambiente de produção em campos aeroespaciais e médicos exige alta confiabilidade de equipamentos; portanto, a fonte de alimentação deve ser projetada com componentes de alta qualidade e projetos avançados para garantir uma operação estável por longos períodos.
● Proteção de falhas: recursos como sobrecorrente, sobretensão, superaquecimento e proteção de curto-circuito para evitar danos a peças de trabalho ou acidentes de produção devido a falhas na fonte de alimentação.
● Capacidade anti-interferência: a fonte de alimentação deve ter uma forte resistência à interferência eletromagnética (EMI) para evitar interrupções em dispositivos eletrônicos médicos ou aeroespaciais sensíveis.
3.3 Adaptabilidade a materiais especiais
● Compatibilidade multimaterial: materiais comuns usados em campos aeroespaciais e médicos, como ligas de titânio, aço inoxidável e ligas à base de níquel, exigem que a fonte de alimentação seja compatível com diferentes necessidades eletroquímicas de polimento.
● Capacidade de baixa tensão e alta corrente: alguns materiais (como ligas de titânio) requerem baixa tensão (5-15 V) e alta densidade de corrente (20-100 a/dm²) para polimento eletroquímico, de modo que a fonte de alimentação deve ter a saída correspondente capacidade.
4.Tendências de desenvolvimento de tecnologia
4.1 Desenvolvimentos futuros de frequência e precisão mais alta em fontes de alimentação de comutação de alta frequência e fontes de alimentação de pulso se concentrarão em frequências mais altas e maior precisão para atender à demanda por tratamento de superfície ultra-precisto em campos aeroespaciais e médicos.
4.2 Controle inteligente A integração da inteligência artificial (AI) e das tecnologias da Internet das Coisas (IoT) permitirá o controle inteligente e o monitoramento em tempo real do processo de polimento eletroquímico, melhorando a eficiência da produção e a qualidade do produto.
4.3 Desenvolvimento de sustentabilidade ambiental de tecnologias de fornecimento de energia de baixa energia e baixa poluição para reduzir o impacto ambiental dos processos de polimento eletroquímico, alinhando-se à tendência de fabricação verde.
5.Clusão
Suprimentos de alimentação DC de alta frequência e fontes de alimentação de pulso, com suas características de alta eficiência, precisão e resposta rápida, desempenham um papel crucial no polimento eletroquímico para campos aeroespaciais e médicos. Eles não apenas melhoram a qualidade e a eficiência do tratamento da superfície, mas também atendem aos requisitos estritos de confiabilidade e consistência nessas indústrias. Com os avanços tecnológicos contínuos, o comutador de alta frequência e as fontes de alimentação de pulso desbloqueará um potencial ainda maior no polimento eletroquímico, impulsionando as indústrias aeroespacial e médica a níveis mais altos de desenvolvimento.
Hora de postagem: fevereiro-13-2025
